半導體製程

  半導體產品

我們生產的薄膜式濾心和深度型濾心適用於使用點和批量分配點的過濾應用,可確保製程液體和氣體的污染控制。研磨液混合和分配系統中的微過濾通常使用多道式過濾器,主要用來去除顆粒並確保拋光工具的正常運作。我們的CMP囊式過濾器可以穩定研磨液的化學性質,控制研磨液中的顆粒大小,有效去除污染物。


  電子級化學品

確保在散裝和使用點位置的化學品無污染是電子工藝的關鍵核心。我們從深度式濾心到高純度薄膜式濾芯等多樣化的濾心產品線可針對終端應用需求提供最佳解決方案。薄膜式濾心最高可捕捉0.02微米級別的顆粒和雜質來防止製程受到汙染。


  平面顯示器

隨著市場對高解析度畫面需求日益增加,如何做到高效益的污染控制也成為重要的課題,其中就包括製程液體過濾。我們為光刻膠、蝕刻劑、剝離劑和用於混合溶液和沖洗顯示器的超純水提供多種過濾介質選擇。


  資料存儲裝置

隨著越來越龐大的存儲需求,雜質和污染控制變得極為關鍵。任何顆粒、雜質、金屬離子析出和可萃取物都可能損害最終產品。我們為CMP研磨液、超純水、基材清洗和製備、介質清洗以及電鍍和塗層操作中使用的化學品提供過濾解決方案。


  電鍍

我們的聚丙烯深度式融噴濾心適用於電鍍和印刷電路板製程。而活性炭濾心可有效去除電鍍槽中的有機污染物和氯。電鍍液、蝕刻液和清洗槽經常通過過濾器反覆循環以保持純度。



  光刻機

光阻劑、顯影劑、塗料和有機溶劑的過濾,是通過去除大量化學品中的污染物來確保高品質的控制。光刻工藝對污染物的存在極為敏感。終端過濾器通過去除顆粒和防止微氣泡的形成來優化光刻膠的產品質量。




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